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    第十屆哈瓦那雙年展將于3月27日舉行

    藝術中國 | 時間: 2009-03-17 08:53:36 | 文章來源: 美術報綜合

      第十屆哈瓦那雙年展將于3月27日至4月30日在古巴首都哈瓦那舉行。中國多位藝術家收到受邀參加此次展覽的“英雄帖”。其中,劉小東在莫羅城堡將以個展的形式出現(xiàn),陳波、仇曉飛、王承云、王慶松、熊宇、周文中則以群展形式呈現(xiàn)。

      本屆雙年展的主題為“全球化時代的整合與抵制”,關注全球化時代世界各國家和地區(qū)之間文化、藝術、思想、經(jīng)濟、政治各方面的融合和碰撞。本著促進該地區(qū)與其他地區(qū)文化藝術對話的目的,本次雙年展邀請了40多個國家和地區(qū)的200多位藝術家。與之前一樣,哈瓦那雙年展的側重點仍然集中在拉丁美洲和加勒比地區(qū),但是中國等亞洲國家的藝術家也在逐漸增加。

      劉小東受邀前往哈瓦那后,他進行了為期一個多月的采風和創(chuàng)作。早在10年前,劉小東曾經(jīng)到過古巴,這次重游古巴就變得令人期待了,劉小東的作品一直以現(xiàn)實主義題材呈現(xiàn)。這次展出的作品他將一如既往地拋卻形式的浮華與宏大的敘事之外,將個體的真實與時代的荒謬緊密銜接。

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